XDV-u镀层厚度测量仪特点
优化的微区分析测试仪器
根据X射线光学系统，可以对100 μm或更小的结构进行分析
极高的能量强度，从而实现出色的精度
即使对于薄镀层，测量的不确定度也有可能做到 < 1 nm
只适用于平面的或是接近平面的样品
底部C型开槽的大容量测量舱
通过快速、可编程的 XY 工作台进行自动测量
XDV-u镀层厚度测量仪典型应用领域
测量印刷线路板、引线框架和芯片上的镀层系统
测量细小部件和细电线上的镀层系统
分析微小结构和微小部件的材料成分
 
 

X 射线荧光测试仪，配有多毛细孔 X 射线光学系统，可自动测量和分析微小部件及结构上镀层厚度和成分